近日,九峰山實驗室化合物半導體中試工藝平臺攜手國內本土原子層沉積(ALD)設備企業(yè)開展聯合技術攻關,順利完成ALD金屬鉬工藝重大技術突破,此次技術成果落地也填補了國內相關工藝在8英寸量產平臺應用領域的空白。
此次研發(fā)攻關過程中,研發(fā)團隊選用穩(wěn)定性強、使用效率更高的二氯二氧化鉬作為...  [詳內文]
九峰山實驗室攻克8英寸ALD鉬工藝 |
| 作者 KikiWang|發(fā)布日期 2026 年 05 月 22 日 17:49 | 分類 化合物半導體 |
